Тезис 

This Technical Report gives guidelines for measuring the sputtered depth in sputtered depth profiling. The methods

of sputtered depth measurement described in this Technical Report are applicable to techniques of surface

chemical analysis when used in combination with ion bombardment for the removal of a part of a solid sample to a

typical sputtered depth of up to severalmicrometres.


Общая информация

  • Текущий статус :  Withdrawn
    Дата публикации : 2001-06
  • Версия : 1
  • :
    ISO/TC 201/SC 4
    Depth profiling
  • 71.040.40
    Chemical analysis

Жизненный цикл


Появились вопросы?

Ознакомьтесь с FAQ

Работа с клиентами
+41 22 749 08 88

Часы работы:
Понедельник – пятница: 09:00-12:00, 14:00-17:00 (UTC+1)

Будьте в курсе актуальных новостей ИСО

Подписывайтесь на наши новости, обзоры, а также на информацию о продуктах.