Последний раз этот стандарт был пересмотрен в 2020. Поэтому данная версия остается актуальной
Тезис Предпросмотр
ISO/TR 22335:2007 describes a method for determining ion-sputtering rates for depth profiling measurements with Auger electron spectroscopy (AES) and X‑ray photoelectron spectroscopy (XPS) where the specimen is ion-sputtered over a region with an area between 0,4 mm2 and 3,0 mm2. The Technical Report is applicable only to a laterally homogeneous bulk or single-layered material where the ion-sputtering rate is determined from the sputtered depth, as measured by a mechanical stylus profilometer, and sputtering time.
The Technical Report provides a method to convert the ion-sputtering time scale to sputtered depth in a depth profile by assuming a constant sputtering velocity. This method has not been designed for, or tested using, a scanning probe microscope system. It is not applicable to the case where the sputtered area is less than 0,4 mm2 or where the sputter-induced surface roughness is significant compared with the sputtered depth to be measured.
Общая информация
-
Текущий статус : PublishedДата публикации : 2007-07
-
Версия : 1
-
- ICS :
-
Chemical analysis
Приобрести данный стандарт
| Формат | Язык | |
|---|---|---|
| Бумажный |
- CHF88
Жизненный цикл
-
Сейчас
PublishedISO/TR 22335:2007
Стандарт, который пересматривается каждые 5 лет
Этап: 90.93 (Подтверждено)
Появились вопросы?
Ознакомьтесь с FAQ
Часы работы:
Понедельник – пятница: 09:00-12:00, 14:00-17:00 (UTC+1)
Будьте в курсе актуальных новостей ИСО
Подписывайтесь на наши новости, обзоры, а также на информацию о продуктах.